Fysisk dampavsetning (PVD) tynnfilmutstyr

Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. Spesialiserer seg i forskning og utvikling av avansert fysisk dampavsetning (PVD) tynnfilmutstyr, og gir høyytelsesbeleggløsninger for industrielle applikasjoner. Dette systemet integrerer banebrytende teknologier som magnetron-sputtering, buefordamping og ionbelegg, og er utstyrt med et oppgradert elektromagnetisk filtreringssystem, noe som muliggjør den kontrollerbare avsetningen av nano til mikroskala legering, metallnitrid og kompositt.

Kjerneteknologiske gjennombrudd inkluderer det elektromagnetiske filtreringssystemet og elektromagnetisk skanningssystem, kombinert med plasmaforbedret reaktiv avsetningsteknologi, som kan filtrere ut nøytrale partikler, store partikkelionsklynger og andre urenheter, betydelig forbedring.

Utstyret vedtar et modulært vakuumkammerdesign, utstyrt med multi-ARC målkombinasjoner og plasmakilder med høy tetthet (HDPs), med en maksimal deponeringshastighet på opptil 5 mikron per minutt, og underlagstemperaturen kan kontrolleres under 200 grader.

I tillegg vedtar den også Chunyuans uavhengig utviklede hybrid PVD -modus og reaktiv gassioniseringsforbedringssystem, så sammenlignet med tradisjonelt utstyr, økes beleggshardheten til HV35 0 0, og defekttettheten reduseres med 60%. Systemet støtter mer enn 40 typer beleggmaterialer som ALCRN, Tisicn og Zro₂-Al₂o₃ nano-komposittmaterialer, med den høyeste hardheten som når 45GPa og en temperaturmotstand som overstiger 800 grader. Det er utstyrt med et bransje 4.0-grensesnitt og kan oppnå ekstern parameteroptimalisering gjennom AI-drevne deponeringsmodeller.

Dette utstyret er for tiden mye brukt i presisjonsdeler, mikroelektronikk, bildeler, forbrukerelektronikk og dekorative beleggfelt. Kjernetegnens lokaliseringshastighet når 85%, og energiforbruket er 30% lavere enn for lignende produkter i EU, og markerer et stort gjennombrudd i Kinas high-end beleggutstyrsfelt.