Din profesjonelle leverandør av ionetsingsutstyr
Anhui Chunyuan Coating Technology Co., LTD., grunnlagt i 2014, er en statlig-nivå høy-teknologisk bedrift og provinsiell spesialisert ny bedrift grunnlagt av det returnerte teamet fra Singapore, og har vokst til det eneste avanserte-ren ionebeleggingsutstyret og industrialiseringslederen for nanocoatingtjenester i Kina.
Selskapet vårt tilbyr et bredt spekter av PVD- og CVD-beleggingsutstyr, inkludert serien med multi-arc ion vakuumbeleggingsutstyr (rent ionebelegg), magnetronforstøvningsvakuumbeleggingsutstyrsserien og elektronfordampningsbeleggingsutstyrsserien.
-
![Tynnfilmetsingsutstyr]()
Tynnfilmetsingsutstyr1. Utstyrsbeskrivelse: · Utstyrsintroduksjon: ekspress Prosessgassmolekylene som passerer gjennom etsekammeret brytes ned og ioniseres for å produsere plasma. uttrykke Noen av de aktive gruppene i...Vis flere -
![Plasma-etsing tynnfilmutstyr]()
Plasma-etsing tynnfilmutstyrPlasma Etching Thin Film Equipment er en banebrytende-løsning designet for presisjonsstripping av tynne-filmbelegg, og tilbyr eksepsjonell ytelse innen overflatemodifisering og fjerning av rester....Vis flere -
![Utstyr for tørretsing]()
Utstyr for tørretsingDry Etching Equipment er en høy-løsning for presisjonsmaterialebehandling på tvers av ulike bransjer. Ved å bruke avansert reactive ion etching (RIE)-teknologi oppnår dette utstyret ikke-kontakt,...Vis flere -
![Plasma rengjøringsmaskin]()
Plasma rengjøringsmaskinPlasma Cleaning Machine er en allsidig løsning for å fjerne organiske forurensninger, oksider og mikroskopiske rester fra materialoverflater. Ved å utnytte plasmateknologi med lav-temperatur...Vis flere
Hvorfor velge oss
stor ecterprise skala
Selskapet har et erfarent team som spesialiserer seg på design, forskning og utvikling (FoU), produksjon og markedsstrategi, med mestring av kjerneteknologier.
Bred anvendelse av teknologi
Vårt firma har omfattende produksjonserfaring som strekker seg over flere år. Ved å følge en -kundesentrisk tilnærming og en vinn-samarbeidsfilosofi har vi utviklet et modent og robust driftsrammeverk.
standardisert produksjon
Vi tilbyr 7x24-timers konsulenttjenester på stedet, og forstår de detaljerte kravene til kundene våre grundig og leverer tilpassede utstyrsløsninger for å møte deres spesifikke produksjonskapasitetsbehov.
Parameter
|
Etsegass: |
Ar, O2 |
|
Strømforsyning: |
380V/50Hz, 10 kW |
|
Vakuumsystem: |
Molekylær pumpe med basistrykk Mindre enn eller lik 5,0×10⁻⁴ Pa |
|
Tilpasning: |
Kammerstørrelse og ytre dimensjoner kan skreddersys til kundens behov. |
Fordeler med ionetsingsutstyr
Lav-temperaturbehandling:
Ioneetsingsutstyret fungerer ved ultra-lave temperaturer, minimerer termisk stress og forhindrer substratdeformasjon. Denne funksjonen er kritisk for ømfintlige materialer som polymerer og presisjonsoptikk.
Justerbar etsehastighet:
Avstanden mellom ionekilden og substratet kan justeres dynamisk via en høydejusterbar roterende plattform, som muliggjør presis kontroll over etsehastigheten (opptil 30 nm/min) for å møte ulike prosesskrav.
Høy ensartethet:
Utstyret med patenterte ionestrålekilder og avansert utladningsteknologi genererer utstyret plasma med høy-tetthet, noe som sikrer jevn etsing og konsistente resultater på tvers av underlag med en diameter på opptil 800 mm.
Dobbel-funksjonalitet:
Utover filmfjerning kan dette systemet tilpasses for multifunksjonelle applikasjoner, inkludert overflaterengjøring og for-forbehandling for påfølgende belegningsprosesser.
Et ion-etseutstyr er en enhet som bruker plasma til å etse eller fjerne materiale fra et polymersubstrat, oksid, metall, glass eller keramikk. Plasma er en høyt ionisert gass som kan brukes til å rense, etse og avsette materialer på overflater.
Kjemisk etsing er prosessen med å bruke kjemikalier for å fjerne materiale fra et underlag. Kjemisk etsing brukes ofte til å fjerne metaller fra kretskort (PCB) og andre elektroniske komponenter. Den kan også brukes til å lage mønstre og former på metalloverflater. Foto Kjemisk etsing er en allsidig produksjonsprosess som gir mange fordeler i forhold til tradisjonelle maskineringsmetoder.
Plasma-etsing er en mer presis og kontrollert prosess enn kjemisk etsing. Plasma-etsing kan brukes til å fjerne svært tynne filmer av materiale, noe som gjør den ideell for applikasjoner der høy nøyaktighet kreves.
Både plasmaetsing og kjemisk etsing har sine fordeler og ulemper. Den beste prosessen for en bestemt søknad avhenger av prosjektets krav.
Frakt- og betalingsbetingelser
|
Betalingsbetingelser |
Vi aksepterer vanligvis T/T, L/C, Paypal, Kredittkort, etc. Hvis du foretrekker andre betalingsbetingelser, kan du gjerne diskutere med oss. |
|
Frakt |
Vi tilbyr ulike forsendelsesmetoder, inkludert sjøfrakt, luftfrakt og ekspresslevering, avhengig av ordrestørrelse og destinasjon. |
FAQ
Vi er godt-kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av ioneetsingsutstyr i Kina. Hvis du skal kjøpe tilpasset ionetsingsutstyr laget i Kina, velkommen til å få prisliste fra fabrikken vår. For priskonsultasjon, kontakt oss.
