Produktoversikt

 

PVD Composite Thin Film Equipment er en industriell vakuumavsetningsplattform konstruert for å deponere tynne filmer av flere-lag, legeringer og nanokompositt. Ved å integrere magnetronforstøvning og katodiske lysbuekilder i et enkelt vakuumkammer, muliggjør systemet presis kontroll over filmmikrostruktur, gjenværende spenning og grenseflateadhesjon. Plattformen er bygget for kontinuerlig produksjon og avansert FoU, og rommer metalliske, keramiske og polymersubstrater med skalerbare kammergeometrier.

 
  • PVD-komposittvakuumavsetningsutstyr
    Denne industrielle PVD-kompositt-vakuumavsetningsplattformen integrerer flere avsetningsteknikker i et enkeltkammermiljø for å avsette ensartede,-flerlags metalliske, legerings- eller dielektriske...
    Vis flere
  • PVD Hybrid tynnfilmavsetningssystem
    PVD Hybrid Thin Film Deposition System integrerer termisk fordampning, elektronstrålefordampning (e-) og RF/DC magnetronforstøvning i en enkelt vakuumarkitektur. Denne plattformen muliggjør...
    Vis flere
  • PVD Multi-Process Thin Film Equipment
    PVD Multi-Process Thin Film Equipment er en integrert vakuumavsetningsplattform konstruert for å kombinere flere tynne-filmfremstillingsteknikker – inkludert RF/DC Magnetron Sputtering, Thermal...
    Vis flere
  • PVD-komposittavsetningsutstyr
    Industrielt PVD-komposittavsetningsutstyr er konstruert for multi-komponent-, fler-- og nano-kompositt tynn-filmproduksjon. Systemet integrerer termisk fordampning, e-strålefordampning og...
    Vis flere
  • PVD kompositt tynnfilmsystem
    Industrielt -vakuumbeleggsystem som integrerer magnetronsputtering (RF/DC/HiPIMS) og katodisk lysbuefordampning. Designet for kontinuerlig, fler-lags-, legerings- og nano-kompositt...
    Vis flere
  • PVD-kompositt tynnfilmutstyr
    PVD Composite Thin Film Equipment er en industriell vakuumplattform designet for å syntetisere flerlags-, legerings- og graderte tynnfilmer. Bygget på en modulær 304L/316L rustfritt...
    Vis flere
 
Tekniske spesifikasjoner

 

Parameter

Spesifikasjonsområde

Ultimativt vakuumtrykk

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Arbeidstrykk

0,1 Pa - 5.0 Pa

Underlagstemperatur

Omgivelsestemperatur til 800 grader (PID-kontrollert-lukket sløyfe)

Deponeringskilder

Konfigurerbar: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulsed DC, Filtered Cathodic Arc

Tykkelse Ensartethet

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Kammermateriale

304L/316L rustfritt stål, mekanisk slipt og elektro-polert (Ra<= 0.4 um)

Integrasjon av strømforsyning

MF-generatorer (10-100 kHz), RF-generatorer (13,56 MHz), pulserende likestrømsforspenning

Kontrollsystem

Industriell PLS + IPC med automatisert reseptutførelse, interlock-overvåking og batchdatalogging

 

Sammensatt avsetningsprosess

Systemet bruker en hybrid fysisk dampavsetningsarkitektur som kombinerer magnetronsputtering og katodisk lysbueteknologi.

Multi-kildesynergi:

Samtidig eller sekvensiell drift av flere katoder muliggjør brå eller graderte komposisjonsoverganger over filmstabelen.

 

Ioneetsing før-rengjøring:

RF- eller DC-plasma-rengjøringsstadier fjerner native oksider og overflateforurensninger før avsetning for å maksimere belegget-til-underlagets vedheft.

Reaktiv avsetningskontroll:

Optisk emisjonsspektroskopi med lukket-sløyfe (OES) regulerer reaktiv gassinjeksjon (O2, N2, C2H2) for å opprettholde stabil sammensetningsstøkiometri og forhindre målforgiftning.

Substratbiasing:

Synkroniserte pulserende strømforsyninger bombarderer den voksende filmen med høye-energiioner, fortette mikrostrukturen og skreddersy gjenværende trykkspenning.

 

Filmmaterialer

Utstyret støtter et bredt spekter av målmaterialer for skreddersydde funksjonskrav:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Overgangsmetallnitrider og -karbider:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN for slitasje- og korrosjonsbestandighet.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokompositt- og flerlagssystemer:

TiSiN, AlTiSiN, metall/keramiske nanolag for ekstrem hardhet og termisk stabilitet ved høy-temperatur.

 
PVD Composite Thin Film System

Transparente ledende oksider (TCO):

ITO, AZO, IGZO for optoelektroniske og fotovoltaiske applikasjoner.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Rene metaller og legeringer:

Ti, Cr, Al, Cu, rustfritt stål, NiCr for elektrisk kontakt og diffusjonsbarrierelag.

 
Søknader
 
 
 

Presisjonsskjæreverktøy:

Avsetning av super-harde,-friksjonsbelegg (f.eks. TiAlN) på karbidskjær, bor og ende-freser for å forlenge driftslevetiden under høye termiske belastninger.

 
 

Bilkomponenter:

Friksjons-reduksjon og slitasjebestandige-filmer på stempelringer, drivstoffinnsprøytningsdeler og girenheter.

 
 

Optoelektronikk og skjermer:

Lav-resistivitet, høy-transmisjonsledende oksidlag for berøringspaneler og solcellesubstrater.

 
 

Medisinsk utstyr:

Biokompatible og slitasjebestandige-belegg på kirurgiske instrumenter og ortopediske implantater.

 

 

Tilpasning og systemkonfigurasjon

Tekniske konfigurasjoner er tilpasset spesifikke produksjonsanleggsbegrensninger og prosessoppskrifter:

Kammerstørrelse:

Sylindriske eller rektangulære kammeralternativer som spenner fra R&D batchsystemer (500 mm diameter) til stor-produksjonsbelastning-låsesystemer (1000 mm+).

01

Utvalg av pumpesuite:

Matchende rotblåsere, turbomolekylære pumper og kryogene pumper basert på nødvendige pumpe-nedetider og gassbelastningsprofiler.

02

Underlagsfeste:

Tilpassede planetrotasjonstrinn, 3-satellittrotasjon eller rull-moduler designet for komplekse 3D-geometrier eller kontinuerlige nett.

03

Automatiseringsnivå:

Halv-automatiske manuelle belastningskonfigurasjoner eller helautomatiske vakuumoverføringssystemer med robotbasert substrathåndtering.

04

 

Produksjon og kvalitetskontroll
 

Lekkasjedeteksjon:

Hvert vakuumkammer gjennomgår lekkasjetesting av heliummassespektrometer til en terskel på < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Sveisinspeksjon:

Vakuum-sidesveiser er TIG-sveiset, slipt og polert, etterfulgt av røntgen- eller penetreringsinspeksjon på forespørsel.

Overholdelse av elektrisk og sikkerhet:

Kontrollpaneler bygget i henhold til NFPA 79 eller CE/IEC-standarder, med maskinvarelåser for vannstrøm, gasstrykk og elektrisk sikkerhet.

Fabrikkgodkjenningstesting (FAT):

Testing før-forsendelse inkluderer 72-timers kontinuerlig tørrkjøring-, verifisering av vakuumytelse og testbeleggavsetning ved bruk av klientspesifiserte oppskrifter.

 

 

Installasjon og teknisk støtte

Retningslinjer for nettstedforberedelse:Omfattende anleggskravdokument gitt med detaljering av verktøygrensesnitt (kjølevannstrøm/trykk, elektrisk belastning, trykkluft, eksos).


På{0}}Idriftsettelse på stedet:Feltserviceingeniører utfører mekanisk justering, vakuumlekkasjekontroller, elektriske koblinger- og innledende kalibrering.


Tuning av prosessoppskrifter:Samarbeid på-stedet med kundemetallurger og prosessingeniører for å låse inn målfilmtykkelse, spenning og hardhet.


Livssyklusstøtte:Eksternt diagnosegrensesnitt, lokalisert reservedelslager og planlagte forebyggende vedlikeholdsprogrammer.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

FAQ

 

 

Spørsmål: Hva er den typiske nedetiden for pumpen- for å nå basistrykket?

A: Ved å bruke standard høye-vakuumkonfigurasjoner (turbomolekylære eller kryogene pumper sammen med pumper med røtter/roterende skovlstøtte), evakueres kammeret fra atmosfæren til < 5,0 x 10^-4 Pa i løpet av 25 til 40 minutter, avhengig av kammervolum og fuktighetsutgassingsbelastning.

Spørsmål: Kan systemet bytte mellom reaktiv og ikke{0}}reaktiv sputtermodus automatisk?

A: Ja. PLS-kontrollprogramvaren styrer massestrømskontrollere (MFC) og strømforsyningsutganger dynamisk, og tillater automatisert overgang mellom metallisk avsetning og reaktiv forbindelsesdannelse innenfor en enkelt prosesssyklus.

Spørsmål: Hvilke substratgeometrier kan standard planetrotasjonstrinnet romme?

A: Standard 3-akset planetarmatur håndterer komplekse 3D-komponenter som skjæreverktøy og bilventiler. Tilpassede jigger kan konstrueres for flate underlag opptil 400 mm x 400 mm eller sylindriske ruller.

Spørsmål: Hvordan sikrer du jevn filmtykkelse over store partier?

A: Ensartethet oppnås gjennom optimalisert katode-til-substratavstand, lokalisert magnetisk feltprofilsimulering og multi-planetrotasjon. Faktisk enhetlighet verifiseres via vitneprøvetesting under FAT.

Spørsmål: Hva er brukskravene for en standard industriell enhet?

A: Krever vanligvis 3-fase 380V/480V (50/60Hz), kjølt kjølevannstilførsel (ca. 15 til 20 grader ved 3 til 4 bar), trykkluft (6 bar) for pneumatiske ventiler og ren tørr luft eller nitrogen for ventilering. Nøyaktige belastninger varierer med strømforsyningskonfigurasjonen.

Vi er godt-kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av pvd-kompositt tynnfilmutstyr i Kina. Hvis du skal kjøpe tilpasset pvd kompositt tynnfilmutstyr laget i Kina, velkommen til å få prisliste fra fabrikken vår. For priskonsultasjon, kontakt oss.

Sende bookingforespørsel
Kontakt osshvis du har spørsmål

Du kan enten kontakte oss via telefon, e-post eller nettskjema nedenfor. Vår spesialist vil kontakte deg snart.

Ta kontakt nå!