Produktoversikt
Industrielt multi-arc ion plating utstyr konstruert for å påføre harde belegg, funksjonelle filmer og dekorative PVD-finisher på presisjonskomponenter. Ved å bruke en høy-, lav-vakuumbueutladning, fordamper systemet direkte faste målmaterialer (Ti, Cr, Al, Zr). Når den kombineres med reaktive gasser (N2, O2, C2H2), syntetiserer den tette overgangsmetallnitrider, karbider og oksider direkte på metalliske substrater.
Bygget på en modulær vakuumkammerarkitektur, passer denne nøkkelferdige PVD-løsningen varierende produksjonsskalaer-fra R&D batch-behandling til automatisert,-inline-produksjon med høy gjennomstrømming. Systemet er optimert for høy målutnyttelse og lave Total Cost of Ownership (TCO) i kontinuerlige 24/7 industrielle miljøer.
-
Multi-Arc Vacuum Deposition UtstyrDette multi-bue-vakuumavsetningssystemet bruker katodisk lysbue-ion-beleggteknologi for å avsette tette, høye-hårde belegg på metalliske og ikke-metalliske underlag. Ved å slå en lav-,...Vis flere
-
Multi-Arc Ion Deposition SystemThe Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionisering av fast...Vis flere
-
Multi-Arc PVD tynnfilmutstyrDet industrielle multi-Arc PVD-systemet bruker høy-ionisering av katodisk lysbuefysisk dampavsetning for å avsette tette, støkiometriske harde belegg (som TiN, TiAlN, CrN og DLC) på metalliske...Vis flere
-
Multi-Arc Ion Deposition UtstyrDet industrielle multi-Arc Ion Deposition System genererer tette,-tynne filmer med høy adhesjon gjennom høy-strøm, lav-katodisk lysbuefordampning. Faste målmaterialer (katoder) fordampes i en...Vis flere
-
Multi-Arc Ion tynnfilmsystemIndustrial Multi-Arc Ion Thin Film System bruker katodisk lysbuefordampning for å avsette tette, høy-klebende keramiske og metalliske belegg på metall- og legeringsunderlag. Ved å fordampe faste...Vis flere
-
Multi-Arc Ion tynnfilmutstyrDette multi-arc ion plating-systemet bruker katodisk lysbuefordampning for å avsette tette, høye-hårde belegg og funksjonelle tynne filmer. Ved å slå en lysbue med høy-strøm og lav-spenning på...Vis flere
Tekniske spesifikasjoner
|
Parameter |
Spesifikasjonsområde |
Enhet / Merknad |
|
Kammerdimensjoner |
Ф600 x 600 til Ф1500 x 1800 |
mm (Egendefinerte vertikale eller horisontale konfigurasjoner) |
|
Ultimativt vakuumtrykk |
<= 5.0 x 10^-4 |
Pa (tørrpumpe + turbo-molekylær / oljediffusjonssett) |
|
Katodebuekilder |
4 til 16 enheter |
Elektromagnetisk styrte eller filtrerte lysbuekilder (FCA) |
|
Substrat Bias Power |
0 til -1000 |
V (Avansert pulsed DC / MF bias evner) |
|
Oppvarmingstemperatur |
Romtemperatur til 600 |
C (PID-kontrollerte strålevarmere) |
|
Deponeringsenhet |
<= +/- 5% |
Målt via XRF over den effektive arbeidssonen |
|
Kontrollsystem |
PLS + Industri-PC |
Automatisert oppskriftskjøring, SCADA-datalogging |
|
Sikkerhet og samsvar |
CE, ISO 9001 |
UL-kompatible elektriske kabinetter tilgjengelig på forespørsel |
Den fysiske dampavsetningssekvensen opererer på en streng, lukket-sløyfeautomatisert arbeidsflyt for å sikre repeterbarhet fra batch-til-batch:
Evakuering og utgassing:
Vakuumkammeret pumpes ned til et basistrykk på<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.
Plasma-etsing (bombardement):
Argongass introduseres. En høy negativ skjevhet påføres substratholderen, og genererer Ar-ioner som bombarderer overflaten for å sputtere bort native oksider og mikro-forurensninger.
Buefordampning og ionisering:
DC-buestrøm treffer den solide metalliske katoden. Den lokale katodeflekken når ekstrem energitetthet, og fordamper øyeblikkelig målmaterialet til en plasmastrøm med høy-tetthet (ioniseringshastighet > 80 %).
Reaktiv avsetning:
Reaktive gasser injiseres i plasmafluksen ved nøyaktig kontrollerte partialtrykk via Mass Flow Controllers (MFC), og danner støkiometriske sammensatte filmer på roterende underlag.
Kjøling og lufting:
Kontrollert avkjøling skjer under inertgassbeskyttelse før kammerventilering, og forhindrer oksidasjon av nybelagte deler.
Filmmaterialer og beleggegenskaper
Systemet støtter fler-metallkatodearrangementer, som muliggjør arkitekturer for monolag, flerlag, nano-kompositt og gradientfilm:

TiN (Titanium Nitride):
Standard gyldent belegg; hardhet 2200–2400 HV; friksjonskoeffisient 0,4. Primær bruk: generelt skjæreverktøy og mekaniske slitedeler.

TiAlN (Titanium Aluminium Nitride):
Høy-temperatur-oksidasjonsmotstand opp til 850 C; hardhet 3000–3300 HV. Primær bruk: høyhastighets-tørrbearbeidingsinnsatser og motorventiler.

CrN / CrAlN (kromnitrid):
Utmerket korrosjonsmotstand og lav indre spenning; anti-beslagsegenskaper mot ikke-jernholdige metaller. Primær bruk: forming av former, stempelringer og tekstilmaskinerikomponenter.

ZrN / TiCN:
Lav overflateruhet (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.
Søknader
Presisjonsskjæreverktøy:
Pindfreser, bor, kokeplater og vendeskjær som krever forlenget verktøylevetid under høye termiske belastninger.
01
Drivlinje for bil:
Stempelstifter, ventilløftere, drivstoffinjeksjonskomponenter og giroverflater som krever redusert grensefriksjon og slitemotstand.
02
Former og matriser:
Injeksjonsformer av plast, stanseformer og-støpeinnsatser som krever motstand mot limslitasje og termisk tretthet.
03
Luftfartskomponenter:
Turbinblader og titanfester som opererer under aggressive korrosive og høye-belastningsmiljøer.
04
Tilpasning og systemkonfigurasjon
Standard katalogartikler passer sjelden perfekt til dedikerte fabrikkoppsett. Utstyrskonfigurasjoner er skreddersydd basert på spesifikk komponentgeometri, syklustidsmål og anleggsbegrensninger:
Kammergeometri:
Åttekantede eller sylindriske kamre i rustfritt stål (SUS304/SUS316L) med doble-vann--kjølekapper.
Kildeoppsett:
Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).
Underlagsfeste:
Planetrotasjon (3-akse) eller enkeltrotasjonsmekanismer drevet av magnetiske væskegjennomføringer for å garantere jevn beleggdekning på komplekse 3D-geometrier.
Alternativer for pumpestabel:
Root-blåsere, roterende vingepumper, kryogene pumper eller turbomolekylære pumper konfigurert for å møte strenge syklustider for-pumper.
Kvalitetskontroll og testprotokoller
Hver maskin gjennomgår streng Factory Acceptance Testing (FAT) før forsendelse, dokumentert for gjennomgang av kjøper:
01
Vakuumintegritetstest:
Heliumlekkasjedeteksjon ved bruk av massespektrometri (lekkasjehastighet<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).
02
Elektrisk sikkerhet og innbrenning-:
72-timers kontinuerlig tørrkjøring av strømforsyninger, vannkjølingslåser og PLS-automatiseringslogikk.
03
Beleggverifisering (internt-laboratorium):
Prøvekjøringer testet via Calo-test (filmtykkelse), Rockwell-innrykk (heftestyrke) og nanoinnrykk (hardhet).

Installasjon, igangkjøring og teknisk støtte
Retningslinjer for nettstedforberedelse:
Detaljerte tegninger for verktøyoppsett for kjølevannstrøm/trykk, trykkluft, avtrekksventilasjon og elektriske samleskinnekrav.
SAT og igangkjøring:
Installasjon på-stedet (Site Acceptance Testing), vakuumkalibrering og baseline reseptoverlevering utført av senior PVD-prosessingeniører.
Prosessopplæring:
Praktisk-operatøropplæring som dekker tidsplaner for katodebytte, forebyggende vakuumvedlikehold, feilsøking og grunnleggende reseptoptimalisering.
Reservedelsstøtte:
Kritiske slitasjekomponenter (katoder, skjold, isolatorer og tetninger) lagerføres for global sending innen 48 timer.
Ofte stilte spørsmål
Vi er godt-kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av multi-arc ion tynnfilmutstyr i Kina. Hvis du skal kjøpe spesialtilpasset multi-arc ion tynnfilmutstyr laget i Kina, velkommen til å få prisliste fra fabrikken vår. For priskonsultasjon, kontakt oss.
