Kina Elektronstrålefordampning Tynnfilmutstyrsprodusenter Leverandører Fabrikk

Produktoversikt

Dette tynnfilmutstyret for elektronstrålefordampning er konstruert for høy-fysisk dampavsetning (PVD). Ved å bruke en fokusert høy-elektronstråle for å bombardere kildematerialer, oppnår systemet høye fordampningshastigheter for høy-smeltepunkt-metaller, oksider og dielektriske materialer.

Systemet er bygget på en modulær vakuumarkitektur, og rommer multi-lommeelektronkanoner, tilpassbare substratarmaturer og avansert in-overvåking. Den betjener FoU-laboratorier og produksjonslinjer med høy-gjennomstrømning som krever streng kontroll over filmstøkiometri, adhesjon og optisk ytelse.

Høyvakuumelektronstrålefordampningsutstyr
EBE-seriens høyvakuumelektronstrålefordampningssystem avsetter tynne filmer med høy-renhet for optiske, halvleder- og metallurgiske applikasjoner. Ved å rette en magnetisk fokusert elektronstråle...
Vis flere
Elektronstråle tynnfilmavsetningssystem
Electron Beam Thin Film Deposition System leverer retningsbestemt PVD-behandling med høy-renhet for avansert forskning og industriell produksjon. Ved å bruke en fokusert, magnetisk styrt...
Vis flere
Elektronstrålevakuumfordampingsutstyr
Dette elektronstrålevakuumfordampningssystemet utfører fysisk dampavsetning (PVD) av høy-smeltepunkt-metaller, oksider og dielektriske stoffer. Ved å rette en fokusert elektronstråle inn i en...
Vis flere
Elektronstrålefordampning tynnfilmsystem
EBE-seriens elektronstrålefordampningssystem er konstruert for fysisk dampavsetning (PVD) av høy-smeltepunkt-metaller, dielektriske stoffer og optiske materialer. Ved å bruke en magnetisk avbøyet,...
Vis flere
Elektronstrålefordamping tynnfilmutstyr
EBE-V600-serien er en plattform for fysisk dampavsetning (PVD) i industriell-skala designet for presis tynn-filmbelegging av optiske komponenter, halvlederenheter og avanserte materialer. Ved å...
Vis flere

Tekniske spesifikasjoner

Parameter	Spesifikasjonsområde	Merknader / Standard konfigurasjon
Ultimate Base Pressure	< 5.0 × 10^-6 Pa	Oppnås via kryogene eller turbo-molekylære pumpegrupper
Kammerdimensjoner	Tilpasset (500 mm til 1200 mm innvendig diameter)	304L / 316L rustfritt stål, elektro-polert
E-Våpenkraftvurdering	6 kW til 15 kW (multi-pocket sweep generatorer)	Programmerbar stråleavbøyning og multi-digelindeksering
Deponeringsrate	0,1 nm/s til 10 nm/s	Sanntids-lukket-sløyfekontroll via kvartskrystallmonitor
Ensartet filmtykkelse	< ±1% to ±2% across standard substrates	Planetarisk eller kuppel substratarmatur med variabel hastighetsrotasjon
Underlagstemperatur	Omgivelsestemperatur til 800 grader	Integrert strålevarme med PID termisk tilbakemelding

Viktige utstyrsfunksjoner

Elektronpistol med høy-stabilitet:

Har magnetisk avbøyning og fler-punktsfokusering for å forhindre lokal overoppheting av kildematerialer og eliminere spytting under reaktiv fordampning.

Modulær smeltedigeldesign:

Utstyrt med 4 til 6-lomme indekserbare ildsteder, som tillater avsetninger i flere lag uten å bryte vakuum.

Avansert vakuumforrigling:

PLS-kontrollerte pneumatiske ventiler, automatisert grovbearbeiding/høy-vakuumsekvensering og forriglinger beskytter mot kjølevannsvikt og strømavvik.

Lavt-forurensningskammer:

Innvendig skjerming bruker elektro-polert rustfritt stål med avtagbare foringer for rask partikkelreduksjon og vedlikeholdsbehandling.

Filmmaterialer og underlag

Kompatible fordampningsmaterialer

Metaller: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrikum og oksider: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

Substrattyper

Silisiumskiver (2 tommer til 12 tommer)
Optisk glass, smeltet silika og kvartssubstrater
Fleksible polymerfilmer (polyimid, PET via rull-til-moduler)
Keramiske underlag (Al2O3, AlN)

Søknader

High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Optiske belegg:

Anti-reflekterende (AR) belegg, smale-båndfiltre og høy-reflektivitetsspeil for laser- og fotonikksystemer.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Halvlederenheter:

Ohmisk kontaktdannelse, gatemetallisering og -løft-av-behandling for mikroelektronikk.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektronikk:

Transparente ledende oksid (TCO) lag og tynne filmer for OLED-skjermer og solcelleceller.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

Avansert FoU:

Utforskende tynne-filmmagnetiske lag, superledende filmer og flerlags heterostrukturer.

Tilpasning og systemkonfigurasjon

Hvert tynn-filmsystem er konfigurert for å matche spesifikke prosessoppskrifter og anleggsoppsett. Tilgjengelige tekniske tilpasninger inkluderer:

Valg av pumpestabel:

Turbo-molekylære pumper (TMP), kryopumper eller olje-diffusjonskonfigurasjoner skreddersydd for grunnleggende vakuum- og gjennomstrømningskrav.

Last inn-Låsintegrasjon:

Manuell last-lås eller automatiserte multi-kammerklyngesystemer for å opprettholde ultra-høy vakuumintegritet og øke wafer-gjennomstrømningen.

In-Situ Metrology:

Integreringsporter for spektroskopiske ellipsometre, optiske monitorer eller restgassanalysatorer (RGA).

Kontrollprogramvare:

Proprietær PLS/HMI-grensesnitt med reseptlagring, datalogging og SECS/GEM-kommunikasjonsprotokoller for smart fabrikkintegrasjon.

Produksjon og kvalitetskontroll

01.

Fartøysfabrikasjon:

Alle vakuumkamre gjennomgår lekkasjetesting av heliummassespektrometer med en avvisningsterskel på < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

Sveiseintegritet:

TIG-sveising utført under inertgassskjerming, etterfulgt av intern overflatepassivering og mekanisk polering for å redusere utgassing.

03.

Fabrikkgodkjenningstesting (FAT):

72-timers kontinuerlig tørking-test som måler pumpekurver, e-gun feiepresisjon, interlock responstider og termisk stabilitet før kasse.

04.

Samsvar og standarder:

Produsert under et ISO 9001-sertifisert kvalitetsstyringssystem, med systemer konstruert for å oppfylle CE-direktiver og relevante SEMI (S2/S8) sikkerhets- og ergonomiske retningslinjer.

Installasjon og teknisk støtte

På{0}}Idriftsettelse på stedet:

Fabrikksertifiserte-serviceingeniører håndterer mekanisk posisjonering, tilkoblinger (strøm, kjølevann, trykkluft) og innledende vakuumbaking-.

Prosessjustering:

Samarbeidsprøver som bruker kunde-spesifiserte substrater for å bekrefte avsetningshastigheter, ensartethet og filmvedheft.

Livssyklusvedlikehold:

Garantert reservedeler tilgjengelig for høy-slitasjekomponenter (filamenter, digler, skjold) og fjerndiagnosestøtte via krypterte industrielle VPN-tilkoblinger.

FAQ

Spørsmål: Hva er den typiske ledetiden for en standard systemkonfigurasjon?

A: Standardkonfigurasjoner sendes innen 16 til 20 uker fra tegningsgodkjenning. Svært tilpassede systemer som krever spesielle belastnings-låskonfigurasjoner eller ikke--standard kammergeometri varierer fra 24 til 30 uker.

Spørsmål: Hvordan forhindrer du kryssforurensning av-materialer mellom forskjellige fordampere?

Sv: Systemet bruker individuelle-vannkjølte peislommer atskilt av termiske og fysiske barrierer, kombinert med optimaliserte elektronstråle-feiemønstre som eliminerer materialesprut.

Spørsmål: Hva er anleggskravene for et 10 kW-system?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 L/min), og tørr trykkluft (0,6–0,8 MPa) for pneumatiske ventiler.

Vi er godt-kjent som en av de ledende produsentene og leverandørene av elektronstrålefordampning av tynnfilmutstyr i Kina. Hvis du skal kjøpe spesialtilpasset elektronstrålefordampningsutstyr laget i Kina, velkommen til å få prisliste fra fabrikken vår. For priskonsultasjon, kontakt oss.