IBAE-systemet kombinerer elektron-stråle eller termisk fordampning med en integrert bred-ionekilde. Samtidig ionebombardement under filmvekst overfører kinetisk energi til kondenserende adatomer, eliminerer søyleformede mikrostrukturer og produserer tynne filmer nær-bulk-tetthet med minimal fuktighet-indusert spektralforskyvning.
Tekniske spesifikasjoner
|
Parameter |
Spesifikasjon |
|
Grunntrykk |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Arbeidstrykk |
1,0 x 10^(-1) til 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
Ionekildetype |
Gridless End-Hall / Kaufmann Ion Source |
|
Ionestråleenergi |
50 eV til 1500 eV (lukket-sløyfe stabilisert) |
|
Ionestrålestrømtetthet |
0 til 2,5 mA/cm^2 |
|
Fordampningskilder |
Multi-lomme E-strålepistol (4 x 15 cc til 6 x 40 cc) / motstandsbåter |
|
Underlagsholder |
Planetrotasjonsarmatur med oppvarming opp til 300 grader C |
|
Tykkelse Ensartethet |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Kontrollsystem |
Siemens S7-1500 PLC + Industrial PC (Inficon deponeringskontroller) |
Nøkkelfunksjoner
Dobbel-modusbombardement:Kinetisk energioverføring fortetter filmer ved lave substrattemperaturer, og beskytter delikat optikk og polymersubstrater.
Lukket-løkke-ionstabilisering:Integrerte massestrømskontrollere opprettholder konstant ionefluks gjennom lange produksjonsserier, og sikrer batchkonsistens.
Modulært vakuumkammer:304L struktur i rustfritt stål med elektro-polert innside (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Automatisert sekvensering:PLS-administrerte pumpe-ned-, deponerings- og ventilasjonssykluser minimerer driftsvariasjonen.
Vakuumsystemkonfigurasjon
Grovbearbeidingspumper:Olje-frie tørre røtter og roterende vingepumper.
Høyvakuumpumpe:Magnetisk levitert turbomolekylær pumpe (1600 L/s).
Målere:Kombinasjon Pirani, kald katode, og Baratron kapasitans manometre.
Ventiler:Pneumatiske port- og vinkelventiler med sikkerhetslåser.
Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet
Oksider:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Fluorer:MgF2, LaF3
Metaller:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Underlag:Sammensmeltet silika, BK7, silisiumskiver, germanium, sinkselenid (ZnSe) og varmebestandig- polyimid.
Søknader
Presisjonsoptikk:Smalbåndspassfiltre og DWDM-belegg som krever stabile senterbølgelengder.
Laseroptikk:Høy-skade-terskelreflektorer og anti-refleksbelegg.
Halvleder og fotonikk:Dielektriske beskyttende lag, passivering og optiske bølgeledere.
Solenergi:Transparent ledende oksid (TCO) grensesnittmodifikasjon.
Tilpasning
Kammerstørrelse:Skalerbare diametre fra 600 mm til 1200 mm.
Kildeoppsett:Opptil tre e-strålekanoner og flere termiske kilder per plattform.
In-Situ Metrology:Bredbånds optisk overvåking (BOM) eller integrering av kvartskrystallmikrobalanse (QCM).
Automasjon:Robotbaserte substratbelastningsgrensesnitt i samsvar med SEMI-standarder.
Kvalitetskontroll
Lekkasjedeteksjon:Helium massespektrometertesting per kammer (sensitivitet<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Komponentkilde:Tier-1 industrielle merkevarer (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Fabrikkgodkjenning (FAT):72-timers kontinuerlig tørrkjøring og verifikasjonsbelegg som måler brytningsindeks og jevnhet før forsendelse.
Installasjon og teknisk støtte
Dokumentasjon:Komplett engelsk pakke inkludert elektriske skjemaer, P&ID-diagrammer og PLS-kildekoder.
Felttjenester:Nøkkelferdig installasjon, vakuumkalibrering og oppskriftsjustering av applikasjonsingeniører.
Fjerndiagnostikk:Sikker VPN-modul for programvare- og prosessfeilsøking.
FAQ
Spørsmål: Hvordan endrer ioneassistanse oksidets brytningsindeks?
A: Energetisk ionebombardement driver ut fangede restgasser og fortette mikrostrukturen, og flytter brytningsindeksen til filmer som Ta2O5 og TiO2 nærmere bulkverdier.
Spørsmål: Hva er det typiske vedlikeholdsintervallet for ionekilden?
A: Vedlikeholdsintervaller varierer fra 150 til 300 behandlingstimer, avhengig av prosessgasser og driftseffekttetthet.
Spørsmål: Kan dette systemet håndtere reaktive gassprosesser?
A: Ja. Uavhengige massestrømskontrollere injiserer reaktive gasser (O2, N2) direkte inn i ionekilden og kammersonene, sammenlåst med sikkerhetstrykkbrytere.
Populære tags: ionestråleassistert fordampningsutstyr, Kina ionestråleassistert fordampningsutstyr, produsenter, leverandører, fabrikk
