System for fysisk dampavsetning (PVD) som bruker lokaliserte elektriske lysbuer med lav-spenning og høy-strøm for å fordampe faste katodemål til fullstendig ionisert plasma. Den høye ioniseringshastigheten (40 %-80 %) driver binding på tett atom-nivå og høy trykkspenning, noe som muliggjør høy-avsetning av slitebestandige- og dekorative belegg på høyhastighetsstål (HSS), skjæreverktøy i karbid, bilkomponenter og medisinsk utstyr.
Tekniske spesifikasjoner
|
Parameter |
Spesifikasjonsområde / detaljer |
|
Kammerdimensjoner |
Tilpasset internt volum (Φ 800 × 1000 mm til Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L dobbel-veggvann-avkjølt) |
|
Ultimate Press |
Mindre enn eller lik 5,0 × 10⁻⁴ Pa (turbomolekylær og røtter/roterende støttepumpekonfigurasjon) |
|
Arbeidstrykk |
0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N₂, C₂H₂, O₂) |
|
Katodebuekilder |
4 til 12 distribuerte sirkulære/rektangulære filtrerte eller standardkilder med uavhengig magnetisk styring |
|
Substratbias |
Pulserende DC-forspenning (0 til -1000 V justerbar, 10–100 kHz) |
|
Varmesystem |
Radiative kvarts varmeovner; maksimal steketemperatur 500 grader (±5 grader jevnhet) |
|
Kontrollarkitektur |
Siemens PLC + Industrial PC (IPC); automatisert oppskriftskjøring og manuell maskinvareoverstyring |
|
Elektrisk forsyning |
3-fase, 380V/480V, 50Hz/60Hz (konfigurert i henhold til regionale standarder) |
Nøkkelfunksjoner
Høy ioniseringseffektivitet:Plasmaioniseringshastigheten når 40 %-80 %, noe som sikrer overlegen film-vedheft til underlag.
Modulære katoder:Rask-målendring minimerer nedetid for vedlikehold; kompatibel med plane og roterbare sylindriske katoder.
Lukket-sløyfegasskontroll:MKS massestrømskontrollere opprettholder presise reaktive gasspartialtrykk for sammensatte filmer (TiAlN, TiCN).
Planetarisk rotasjon med flere-akser:Tilpassede rotasjons- og omdreiningsdrev sikrer jevn tykkelse (±5%) på tvers av komplekse 3D-geometrier.
Dobbel-modusoperasjon:Støtter DC-buefordampning og pulsed bias sputtering-integrasjon for flerlagsarkitekturer.
Vakuumsystemkonfigurasjon
Grovbearbeidingspumper:Kombinasjon av røtter og roterende vingepumpe for rask nedpumping-fra atmosfære til 10 Pa.
Høyvakuumpumpe:Magnetisk levitert turbomolekylær pumpe (1600–3200 L/s) som sikrer hydrokarbon-fritt basetrykk.
Ventiler og måler:Pneumatiske-høyvakuumportventiler med Pirani- og kaldkatode-ioniseringslåser for å forhindre tilbakestrømming av olje.
[Visuell veiledning for nettprodusent]:Sett inn skjematisk eller tydelig bilde av vakuumrørleggeroppsettet, fremhev turbomolekylær pumpe og pneumatisk portventilposisjon.
Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet
Standard katodemål (renhet større enn eller lik 99,95 %)
Overgangsmetaller:Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (50/50, 33/67 atomforhold), CrAl, W, Nb, Si.
Legeringer og forbindelser:Grafitt (for DLC-mellomlag), rustfritt stål.
Underlagskompatibilitet og for-forbehandling
Materialer:WC-Co-skjæreverktøy, hobbing-kuttere, brosjer, stanseformer, sprøytestøper, titanlegeringer (grad 5) og rustfritt stål.
Forbehandling:{{0}Ultralydavfetting av løsemidler og -ionebombardementrensing (Ar⁺ plasmaetsing) inne i kammeret før deponering.
Søknader
Skjære- og formingsverktøy:TiN-, TiAlN- og AlCrN-belegg som øker overflatehardheten til 3000–3500 HV, og undertrykker termisk kratering og slitasje.
Bilkomponenter:Friksjonsreduserende-belegg for stempelringer, drivstoffinjeksjonspinner og girkomponenter.
Medisinske implantater:Biokompatible TiN og ZrN harde belegg på ortopediske ledderstatninger og kirurgiske skruer.
Dekorativ maskinvare:Fargespekterproduksjon (gullmessing, rosa gull, gunmetal black, titanium grey) via reaktiv gasstuning.
Tilpasningsalternativer
Kammergeometri:Vertikal lasting (grop-montert eller gulv-stående) eller horisontal front-konfigurasjoner.
Kildekonfigurasjon:Filtrerte katodisk bue (FAC) magnetiske kanalkilder for å eliminere makropartikler for optisk eller presisjonselektronikk.
Automasjon:Robotbaserte lastearmer, AGV-dokkingsintegrasjon og MES-dataloggingsprotokoller.
Kvalitetskontroll og fabrikktesting
Lekkasjedeteksjon:Heliummassespektrometertesting på alle kamre og sveisesømmer (mindre enn eller lik 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).
Elektrisk sikkerhet:Høy-isolasjonsmotstand, jordingskontinuitet og funksjonsverifisering av PLS-forrigling.
Prøvekjøring (FAT):72-timers kontinuerlig tørrtest- pluss standard beleggavsetningstest evaluert via Calo-test (tykkelse) og ripetester (adhesjon).
Dokumentasjonspakke:Elektriske skjemaer, P&ID-diagrammer, PLS-kildekoder, materialsertifikater og FAT-rapporter.
Installasjon og teknisk støtte
Forberedelse av nettstedet:Detaljerte layouttegninger, kjølevannsmålinger og strømfordelingsspesifikasjoner leveres 4 uker før forsendelse.
Igangkjøring:Mekanisk montering på-stedet, vakuumkalibrering og oppskriftsoverlevering av senior prosessingeniører.
Opplæring:Praktisk-instruksjon som dekker maskinvarevedlikehold, vakuumfeilsøking og sikkerhetsprotokoller.
Støtte:Fjerndiagnoseprogramvareintegrering for sanntids-PLS-feilsøking, støttet av regionalt reservedelslager.
FAQ
Spørsmål: Hvordan kontrollerer systemet makropartikler (dråper)?
A: Standardsystemer bruker optimaliserte magnetiske inneslutningsfelt for å styre buepunkter raskt. For optiske eller ultra-myke bruksområder, integrerer vi magnetiske kanaler med filtrert katodisk bue (FAC) for å filtrere ut dråper helt.
Spørsmål: Hva er målutnyttelsesgraden og erstatningstiden?
A: Planare og sirkulære mål oppnår 45 %-60 % utnyttelse. Målene er vann-avkjølte og monteres via hurtigklemmeforseglinger, noe som tillater utskifting av mål innen 45 minutter.
Spørsmål: Hva er kravene til anleggsverktøyet?
A: Kjølt vannforsyning (8–15 m³/t, 18–22 grader, 0,2–0,3 MPa), trykkluft (0,6 MPa), og stabil 3-fase industrikraft.
Spørsmål: Kan eksisterende prosessoppskrifter overføres?
A: Ja. Siemens IPC-plattformen tillater direkte parameterinngang for lysbuestrøm, forspenning, gassstrøm og varighet for å matche eksisterende industrielle oppskrifter.
Populære tags: katodisk lysbue tynnfilm utstyr, Kina katodisk bue tynn film utstyr produsenter, leverandører, fabrikk
